마이크로프로세서는 액체 고체 파우더를 위해 웨이브 레이더 액면계를 안내했습니다

복잡한 응용 프로그램을 위한 고도 마이크로프로세서 피유도파 레이더 액면계

복잡한 응용 프로그램을 위해 고도 마이크로프로세서 피유도파 레이더 액면계의 원칙으로 일하기

유도된 웨이브 레이더에 의해 분사된 내부식성과 마이크로파 펄스는 검출 성분 (강철 케이블 또는 강철봉)을 따라 퍼지고, 시험된 매체와 마주칩니다. 유전체 상수의 갑작스런 변화 때문에, 그것은 반영을 야기시키고 펄스 에너지의 일부가 뒤로 반영됩니다. 송신 펄스와 반사 펄스 사이의 시간 간격은 측정된 매체의 거리에 비례합니다.

입력 처리

시간 여행의 관계를 겨냥한 측정 장비인 피유도파 라다르툴. 701개 스레드 & 플랜지 안티-코르트션 파도 유도된 레이더 파는 광속에서 작동하고 이동 시간이 전자 부품에 의해 목적 레벨 신호로 변환될 수 있습니다. 현명한 anf 기능성 탐침은 주파수 펄스를 대단히 분사하고, 더 케이블 또는 로드 조사를 따라 퍼집니다.

출력 처리

(= 전체 범위) 탱크 높이 Ｅ (= 제로), 가득 찬 탱크 높이 Ｆ와 같이 비어있는 위치와 약간의 응용 매개 변수에 들어감으로써, 응용 매개 변수 4-20mA 출력에 해당되면서, 자동적으로 그리고 디스프로슘이 측정 환경에 미터를 맞출 것입니다.

고도 마이크로프로세서의 설계 특성은 복잡한 응용 프로그램을 위해 웨이브 레이더 액면계를 안내했습니다

측정, 대단히 -아큐라테드 측정, 더 정확한 측정과 연락하면서, ◎Guided 웨이브 레이더 물체 액면계는 진보적 전자레인지 처리 기술과 유일한 반향 발견 반향 처리 기술을 시도합니다. 게다가, 어느 것이 안내를 받는 웨이브 레이더인지 매체 온도와 접착과 같은 외부 환경에 의해 영향을 받지 않습니다.

◎The 70-X 일련 피유도파 레이더 물체 액면계는 버스프로세스 접속 방식과 검출 모듈 유형으로 인해 다재다능한 복잡한 근무 조건과 적용에 적합합니다. 예를 들면 다음 고온, 고압력과 낮은 유전체 상수 매체.

◎Pulse 일하는 모더, 소량 방출 전력은 부식제의 큰 다양성에 설치될 수 있습니다, 비금속 용기와 비 스테인레스가 약 신체와 환경으로 어떤 엄격도 단단하게 하지 않습니다.

고도 마이크로프로세서의 기술적인 매개 변수는 복잡한 응용 프로그램을 위해 웨이브 레이더 액면계를 안내했습니다

※Note :상품은 사용자들을 위한 특정 요구 사항에 따라 맞춤화될 수 있습니다.