화학 생산에서 프로세스 생산의 요구 사항을 충족시키기 위해 일반적으로 인터페이스 수준으로 알려진 다른 매체의 분리 표면을 탐지하는 것이 종종 필요합니다.실제 현장 근무 조건에 따라, 인터페이스 레벨 측정의 주류 솔루션에는 밀도 차이와 다이 일렉트릭 상수 차이에 기반을 둔 솔루션이 포함됩니다.인터페이스 레벨 측정에 일반적으로 사용되는 도구는 차차 압력 레벨 측정기입니다., 플로트 레벨 게이저, 자기 경축 레벨 게이저, 유도 파동 레이더 레벨 게이저, 그리고 기타.
두 측정 매체 사이의 밀도 차이가 작다면, 차차 압력 방법 또는 플로트 타입 측정은 적용할 수 없습니다.두 매체 사이의 변압수 변수 차이가 크면이 측정 방법은 산업 생산에서 유도 파동 레이더 레벨 게이저가 널리 채택됩니다.
가이드 웨이브 레이더 레벨 게이드의 측정 원리는 레이더 파도가 분리 표면에 닿을 때 에코로 전송되고 반사된다는 것입니다.수신 센서가 음향을 캡처 한 후, 거리, 즉, 인터페이스 레벨은 파동 속도를 사용하여 TOF (비행 시간) 원리에 따라 계산됩니다. 인터페이스를 측정하기 위해 유도 파동 레이더 레벨 미터를 사용할 때,빛 매체가 레이더 파도에 약한 반사 효과를 갖는 것을 보장하는 것이 중요합니다., 즉 두 매체 사이의 큰 변압기 상수 차이를 의미합니다. 대중적으로 말하면 하나는 단열기이고 다른 하나는 좋은 전도기입니다.
다른 인터페이스 레벨 측정 솔루션과 비교했을 때, 유도파 레이더 레벨 측정기의 주요 장점은 레이더 신호가 유도파 막대 langs 전파,집중된 전송 및 반사 에너지와 거의 attenuation가 없습니다.이 특징은 유도 파동 레이더 레벨 메이저가 강한 반사 신호를 생성 할 수있게하며 측정 정확성은 다양한 외부 요인에 영향을받지 않습니다.온도 변동으로 측정 결과가 변하지 않습니다., 압력 및 매체의 물리적 특성을 확인하여 측정 정확성을 보장합니다.
그러나, 유도파 레이더는 또한 주목할 필요가 있는 특정 한계를 가지고 있습니다:레이더 레벨 게이즈의 원칙은 상층 매체에 더 작은 다이 일렉트릭 상수가 있고 하층 매체에 분리 표면에 더 큰 것이 필요하다는 것을 요구합니다.이 두 매체는 층화되어 있지만, 이 두 매체의 이전적 상변의 차이는 작으면 정확한 측정이 이루어질 수 없습니다.또한, 분리 표면에 많은 양의 서스펜션과 에뮬러션이나 폼과 수증기를 생성하는 작업 조건과 같은 복잡한 조건,또한 측정 정확도에 영향을 줄 수 있습니다.한편, 설치 중에 레이더 레벨 게이드의 설치 위치에 주의를 기울여야 합니다. 그것은 공급 입구, 조동기 및 다른 위치에서 멀리 유지되어야 합니다.부적절한 설치는 레이더 파도의 에코 신호에 간섭을 일으킬 것입니다따라서 설치 도중 저장 탱크의 높이와 설치 위치와 탱크 벽 사이의 거리를 고려해야합니다.그리고 레이더 레벨 가이드에 충분한 설치 공간이 예약되어야 합니다..
비교적 복잡한 측정 환경에서 마이크로파가 전파하는 과정에서 겪는 장애물은 물질뿐만 아니라이것은 여러 개의 반향을 발생시키고 궁극적으로 물질 위치를 정확하게 결정하는 데 실패로 이어질 것입니다.위 상황을 해결하기 위해 특별한 조치가 필요합니다. 유도 파동 튜브 또는 우회 채널을 설치하면 이러한 문제를 효과적으로 해결할 수 있습니다.
가이드 웨브 튜브 또는 바이패스 채널을 설치하면 측정에 장애물이 방해되는 것을 효과적으로 피할 수 있습니다.이것은 특정 특정 실제 노동 조건에만 적용됩니다., 좋은 유동성을 가진 미디어만 유도 파도 튜브 또는 바이패스 채널이 주요 측정 컨테이너와 같은 수평 수준에 있는지 보장 할 수 있기 때문에 점착한 미디어에 적합하지 않습니다..또한 유도 파동 파이프 또는 바이패스 채널의 내부 벽이 매체의 유동성이 방해받지 않도록 매끄럽어야하여 측정에 영향을 미치지 않도록 주의해야합니다.또한, 연결 파이프의 높이의 요구 사항은 안테나가 탱크로 최소 10mm로 확장되어야 한다는 것입니다.
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